发明名称 | 离子浓度监控系统 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI486573 | 申请公布日期 | 2015.06.01 |
申请号 | TW098141439 | 申请日期 | 2009.12.04 |
申请人 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 发明人 | 洪新钦 |
分类号 | G01N21/66 | 主分类号 | G01N21/66 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 一种离子浓度监控系统,其包括镀膜腔及向所述镀膜腔提供混合气体的气体供应装置,所述镀膜腔内的混合气体被放电激发为不同的离子,其改进在于:所述离子浓度监控系统还包括电离真空管、光纤及气体流量控制器,所述电离真空管的一端与镀膜腔连通,所述电离真空管的另一端通过光纤与所述气体流量控制器相连,所述电离真空管激发混合气体产生发射光谱,该发射光谱通过光纤传输至所述气体流量控制器,所述气体流量控制器包括:预设模块,用于设定镀膜腔内不同离子的浓度比例值;光谱分析模块,用于分析混合气体的发射光谱以获取镀膜腔内不同离子的实际浓度比例值;比较控制模块,与所述预设模块、光谱分析模块和气体供应装置相连,用于比较所设定的离子浓度比例值与实际离子浓度比例值,并根据比较结果控制气体供应装置的供气流量以将镀膜腔内的离子浓度比例维持为设定值;所述离子浓度监控系统还进一步包括靶座、基座及靶材,所述镀膜腔包括一圆柱形侧壁,所述圆柱形侧壁于相同高度的位置处间隔均匀地设置有多个所述靶座,所述基座设置在所述镀膜腔内。 | ||
地址 | 新北市土城区自由街2号 |