于ＥＵＶ辐射时未显膨胀之用于ＥＵＶ微影的镜胚料;MIRROR BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY SHOWING NO EXPANSION UPON EUV IRRADIATION

摘要

本发明系关于一种用于EUV镜之基板，其包含脱离统计分布之零交叉温度剖面。本发明亦关于一种产生用于EUV镜之基板之方法且关于其用途，藉此使该基板中之该零交叉温度剖面适于该镜之操作温度，以及关于使用该基板之微影方法。