处理装置、离子植入装置及离子植入方法

主权项

一种处理装置，包括：一末端站，系支撑一工件；一离子束产生器，系产生一离子束朝向该末端站；以及一扫描装置，系以一横向扫描方向扫描该离子束，其中，该扫描装置系设置于朝向该末端站之该离子束之一第一路径之中以及朝向该末端站之该离子束之一第二路径之外。