发明名称 |
在具有资源共享的处理系统中用于处理基板之方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI487053 |
申请公布日期 |
2015.06.01 |
申请号 |
TW102143472 |
申请日期 |
2011.04.12 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
克鲁斯詹姆士P;坎特维尔德莫特;徐明;哈帝查理斯;施瓦兹班杰明;柯林斯肯尼士S;盖叶安德鲁恩;隋志峰;李伊文斯 |
分类号 |
H01L21/67;H01J37/32 |
主分类号 |
H01L21/67 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种在一双室处理系统中处理多个基板的方法,该双室处理系统具有一第一处理腔室、一第二处理腔室和多个共享处理资源,该方法包含以下步骤:提供一基板至该双室处理系统之该第一处理腔室,其中该第一处理腔室具有一第一处理容积,该第一处理容积与该第二处理腔室之一第二处理容积系分开的;自该多个共享处理资源提供一个或多个处理资源仅至该第一处理腔室之该第一处理容积;以及当提供该一个或多个处理资源仅至该第一处理容积时,在该第一处理腔室的该基板上执行一制程。
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地址 |
美国 |