发明名称 | 电浆氧化处理方法 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI487027 | 申请公布日期 | 2015.06.01 |
申请号 | TW097111436 | 申请日期 | 2008.03.28 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 壁义郎;小林岳志;盐泽俊彦;北川淳一 |
分类号 | H01L21/316;H01L21/76 | 主分类号 | H01L21/316 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 | |
主权项 | 一种电浆氧化处理方法,系对具有疏密之凹凸图案之被处理体进行电浆氧化处理而形成矽氧化膜者;其特征为包含:使具有凹凸图案之被处理体载置于,在电浆处理装置之处理室内设置之载置台的步骤;对上述处理室内供给氧之比例为0.5%以上小于10%之处理气体、保持上述处理室内之压力为1.3~665Pa的步骤;及对上述载置台施加高频电力而形成上述处理气体之电浆,藉由该电浆对被处理体进行氧化处理的步骤,上述处理室内之压力为1.3~133.3Pa,上述高频电力之输出为相当于被处理体之单位面积0.015~5W/cm2,上述电浆,系藉由上述处理气体、及利用具有多数缝隙之平面天线而被导入上述处理室内的微波,所形成之微波激发电浆,而微波输出为0.5~5W。 | ||
地址 | 日本 |