发明名称 | 投影物镜畸变之测量方法 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI486722 | 申请公布日期 | 2015.06.01 |
申请号 | TW101109610 | 申请日期 | 2012.03.21 |
申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 方立;孙刚;闵金华;张俊 |
分类号 | G03F7/20 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 代理人 | 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 | |
主权项 | 一种投影物镜畸变之测量方法,包括:将一包含有特征标记的掩模版放置于掩模台,将一基底放置于工件台;进行掩模台步进曝光,具体包括:将基底移至投影物镜的一曝光场位置;进行第一次曝光,在基底上获得所述特征标记对应于当前曝光场的第一特征图形;固定工件台,使掩模台步进一第一距离后进行第二次曝光,在基底上获得所述特征标记对应于当前曝光场的第二特征图形;获得所述第一特征图形和第二特征图形之间的一第一位置偏差;进行工件台步进曝光,具体包括:将基底移至投影物镜的一曝光场位置;进行第一次曝光,在基底上获得所述特征标记对应于当前曝光场的第三特征图形;固定掩模台,使工件台步进一第二距离后进行第二次曝光,在基底上获得所述特征标记对应于当前曝光场的第四特征图形;获得所述第三特征图形和第四特征图形之间的一第二位置偏差; 消除第一位置偏差中所包含的掩模台和/或工件台的运动误差,得到一第一修正偏差;消除第二位置偏差中所包含的掩模台和/或工件台的运动误差,得到一第二修正偏差;求所述第二修正偏差与所述第一修正偏差的差值,并根据该差值计算出投影物镜畸变。 | ||
地址 | 中国 |