发明名称 投影物镜畸变之测量方法
摘要
申请公布号 TWI486722 申请公布日期 2015.06.01
申请号 TW101109610 申请日期 2012.03.21
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 方立;孙刚;闵金华;张俊
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项 一种投影物镜畸变之测量方法,包括:将一包含有特征标记的掩模版放置于掩模台,将一基底放置于工件台;进行掩模台步进曝光,具体包括:将基底移至投影物镜的一曝光场位置;进行第一次曝光,在基底上获得所述特征标记对应于当前曝光场的第一特征图形;固定工件台,使掩模台步进一第一距离后进行第二次曝光,在基底上获得所述特征标记对应于当前曝光场的第二特征图形;获得所述第一特征图形和第二特征图形之间的一第一位置偏差;进行工件台步进曝光,具体包括:将基底移至投影物镜的一曝光场位置;进行第一次曝光,在基底上获得所述特征标记对应于当前曝光场的第三特征图形;固定掩模台,使工件台步进一第二距离后进行第二次曝光,在基底上获得所述特征标记对应于当前曝光场的第四特征图形;获得所述第三特征图形和第四特征图形之间的一第二位置偏差; 消除第一位置偏差中所包含的掩模台和/或工件台的运动误差,得到一第一修正偏差;消除第二位置偏差中所包含的掩模台和/或工件台的运动误差,得到一第二修正偏差;求所述第二修正偏差与所述第一修正偏差的差值,并根据该差值计算出投影物镜畸变。
地址 中国