发明名称 CLEANING SOLUTION FOR NITROGEN SURFACE OF GaN SUBSTRATE AND METHOD OF CLEANING NITROGEN SURFACE OF GaN SUBSTRATE USING THE SAME
摘要 <p>본 발명은 질화갈륨 기판용 세정용액 및 이를 이용한 질화갈륨 기판 세정방법에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 질화갈륨 기판의 양측 표면 중 층 전이 공정을 위해 다른 기판과 접합되는 접합면인 N 표면의 표면조도 증가를 최소화함과 동시에 표면에 흡착되어 있는 파티클을 용이하게 제거할 수 있는 질화갈륨 기판의 N 표면용 세정용액 및 이를 이용한 질화갈륨 기판의 N 표면 세정방법에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은, 다른 기판과의 접합면이 되는 질화갈륨 기판의 N 표면을 세정하는 세정용액에 있어서, 염기성 수용액 및 유기 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 질화갈륨 기판의 N 표면 세정용액 및 이를 이용한 질화갈륨 기판의 N 표면 세정방법을 제공한다.</p>
申请公布号 KR101524930(B1) 申请公布日期 2015.06.01
申请号 KR20130109563 申请日期 2013.09.12
申请人 发明人
分类号 C11D7/06;C11D7/26;H01L21/302 主分类号 C11D7/06
代理机构 代理人
主权项
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