| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beheizen insbesondere eines Suszeptors (4) eines CVD-Reaktors (1) mit mindestens einem Heizelement (9, 19), wobei Abschnitte des Heizelementes (9, 19) oder verschiedene Heizelemente (9, 19) nebeneinander verlaufen und mittels Stützelementen (10, 20) gegenüber einer Stützplatte lagefixiert sind, wobei die Stützelemente (10, 20) jeweils einen Fuß (15, 16, 17; 25, 26, 27), der formschlüssig gesichert in einer Befestigungsöffnung der Stützplatte (29) steckt, und einen mit einem sich quer zur Erstreckungsebene der Stützplatte (29) erstreckenden Schaft (14, 24) verbundenen Kopf (11, 12, 13; 21, 22, 23), an dem das Heizelement (9, 19) befestigt ist, aufweist. Zur Verbesserung der Befestigung der Stützelemente bzw. die Befestigung der Verbindungselemente an der Heizvorrichtung, wird vorgeschlagen, dass der Fuß (15, 16, 17; 25, 26, 27) mit Formschlussbefestigungsmitteln (15, 16, 17; 25, 26, 27) in einer Befestigungsöffnung (38) der Stützplatte (29) befestigt ist, die das Stützelement (10, 20) in Erstreckungsrichtung des Schaftes (14, 24) an die Stützplatte (29) fesseln.</p> |
