ディスプレイ・デバイスのためのバリア材料

摘要

１つ又は複数のシリコン含有層と金属酸化物層とを含む装置がここに記載される。また、例えばディスプレイ・デバイス内の不動態化層として使用されるべき１つ又は複数のシリコン含有層を形成する方法もここに記載される。１つの特定の態様では、本装置は、透明金属酸化物層と、酸化ケイ素層と、窒化ケイ素層とを含む。この又は他の態様では、本装置は３５０℃以下の温度で堆積される。ここに記載されるシリコン含有層は、約１．９ｇ／ｃｍ3以上の密度、約４?１０22ｃｍ-3以下の水素含有量、及びＵＶ−可視光分光計によって測定したときに４００〜７００ｎｍで約９０％以上の透明度のうち１つ又は複数を含む。