发明名称 Apparatus and method for forming semiconductor devices
摘要 <p>본 발명은 반도체 소자 형성 장치를 제공한다. 반도체 소자 형성 장치는 내부 튜브, 및 이를 감싸는 외부 튜브를 가진다. 내부 튜브의 상단에는 내부 튜브 내 상부 영역에서 압력과 내부 튜브 내 다른 영역에서 압력 편차를 줄이기 위해 통공이 형성된 플레이트가 제공된다. 플레이트에 형성된 통공들의 개공 면적의 합은 플레이트 전체 면적의 10~60 %로 제공된다. 플레이트의 중앙부에는 제 1 통공이 형성되고, 플레이트의 가장자리부에는 제 1 통공을 감싸는 환형의 배치로 복수의 제 2 통공들이 형성된다.</p>
申请公布号 KR101523357(B1) 申请公布日期 2015.05.28
申请号 KR20080090756 申请日期 2008.09.16
申请人 发明人
分类号 H01L21/20;H01L21/22 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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