发明名称 Flächeneffiziente Druckerfassungsvorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
摘要 Die Erfindung stellt Schaltungen, Verfahren und Vorrichtungen für Druckerfassungsvorrichtungen bereit, die einen Drucksensor als ersten Wafer-Teil mit einer von einem Rahmen getragen Membran umfassen. Der Drucksensor kann an einem anwendungsspezifischen integrierten Schaltkreis als zweiten Wafer-Teil befestigt werden. Ein Durchlass kann durch die anwendungsspezifische integrierte Schaltung von deren Unterseite zu deren Oberseite reichen, wo er in einem Hohlraum enden kann, der unter der Membran ausgebildet ist. Schaltungskomponenten können in dem zweiten Wafer-Teil ausgebildet sein und sich in Bereichen, die nicht unter der ersten Wafer-Teil liegen, befinden. Schaltungskomponenten können so in dem zweiten Wafer-Teil gefertigt sein, dass sie teilweise unter dem ersten Wafer-Teil oder teilweise unter dem Rahmen oder teilweise unter der Membrane liegen.
申请公布号 DE102014016466(A1) 申请公布日期 2015.05.28
申请号 DE20141016466 申请日期 2014.10.31
申请人 ELMOS SEMICONDUCTOR AG;SILICON MICROSTRUCTURES, INC. 发明人 DÖRING, HOLGER,
分类号 G01L9/06;B81B3/00;B81B7/02;B81C1/00;H01L25/16;H01L29/84;H01L29/96 主分类号 G01L9/06
代理机构 代理人
主权项
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