| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur dynamischen Beschichtung von kontinuierlich transportierten Substraten 1 mittels Verdampfung, indem in der dem Substrat 1 gegenüber liegenden Verdampfungsoberfläche 21 des in einem Verdampfer 19 von unten nachgeführten Verdampfungsguts 20 zumindest eine Dampfquelle ausgebildet wird und ein Substrat 1 in die von der Dampfquelle aufsteigende Dampfwolke 10 gebracht und beschichtet wird, wobei der Bedampfungsabstand 22 zwischen der Verdampfungsoberfläche 21 und dem Substrat 1 eingestellt wird. Um für von unten nachführbares Verdampfungsgut den Verdampfungsabstand zwischen Substrat und Verdampfungsoberfläche und die geometrische und zeitliche Verteilung der Beschichtungsrate auch für die dynamische Bedampfung mit hoher Beschichtungsrate und lange Prozesszyklen sowie großflächige Substrate konstant zu halten, wird das Verdampfungsgut 20 mit einer konstanten Geschwindigkeit nachgeführt und die Höhe der Verdampfungsoberfläche 21 relativ zum Substrat 1 als Regelgröße während der Verdampfung mittels eines geeigneten Verdampfungsparameters als Stellgröße auf einen konstanten Wert geregelt.</p> |
