| 发明名称 | 一种以耐高温聚合物薄膜为基底的菲涅尔透镜制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种以耐高温聚合物薄膜为基底的菲涅尔透镜制作方法，结合光学薄膜制备工艺中所使用的成膜基板表面刻蚀有负向互补菲涅尔结构，在制备高玻璃化转变温度(Tg)光学级薄膜的同时，将菲涅尔图案结构转印到薄膜表面，实现一种以耐高温高分子薄膜为基底的菲涅尔透镜制作方法，大大简化了该类薄膜表面菲涅尔结构加工工艺，节省大量人力物力，降低制作成本；轮廓精度高；特别适合于一类耐高温的高Tg聚合物光学薄膜材料，是一种温和的菲涅尔结构成型方法。 | ||
| 申请公布号 | CN104650376A | 申请公布日期 | 2015.05.27 |
| 申请号 | CN201510108830.0 | 申请日期 | 2015.03.12 |
| 申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 王松;杨伟;刘奎;吴时彬;任戈 |
| 分类号 | C08J7/04(2006.01)I;C08J7/12(2006.01)I;G02B3/08(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)N | 主分类号 | C08J7/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种以耐高温聚合物薄膜为基底的菲涅尔透镜制作方法，其特征在于：结合光学薄膜制备工艺中所使用的成膜基板表面刻蚀有负向互补菲涅尔结构，在制备高Tg光学级薄膜的同时，将菲涅尔图案结构转印到薄膜表面，实现一种以耐高温高分子薄膜为基底的菲涅尔透镜制作方法。 | ||
| 地址 | 610209 四川省成都市双流350信箱 | ||