挡板和包含该挡板的衬底处理装置

摘要

提供一种衬底处理装置，其包括用于产生等离子体的等离子体产生部；置于等离子体产生部下方、并在内部具有空间的外罩；置于外罩内并支撑衬底的基座；以及包含将从等离子体产生部提供的等离子体注入至衬底的注入孔的挡板。挡板包含在其中形成有注入孔的基底；并且基底的中心部分比其边缘厚。

主权项

一种衬底处理装置，包括：等离子体产生部，其用于产生等离子体；外罩，其置于等离子体产生部下方、并在内部具有空间；基座，其置于所述外罩中并支撑衬底；以及包含注入孔的挡板，所述注入孔用于将从所述等离子体产生部提供的所述等离子体注入到所述衬底；其中，所述挡板包括基底，在所述基底中形成有所述注入孔，并且所述基底的中心部分比其边缘厚；所述挡板还包括耦接部，所述耦接部具有环形形状并从所述基底的顶面的边缘向上突出，并且所述耦接部的上端部比所述基底的顶面的中心部分高。