| 发明名称 | 顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸衍生物的制造方法和顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸的纯化方法 | ||
| 摘要 | 本发明的课题在于提供高纯度的顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸的纯化方法及其衍生物的制造方法。本发明提供顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸衍生物的制造方法和顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸的纯化方法，其特征在于，该方法包括将顺式-5-羟基-2-哌啶羧酸转换为式(1)和/或式(2)(R<sup>1</sup>表示氨基的保护基，R<sup>2</sup>表示C1～C6的烷基)的化合物的工序。<img file="DDA0000687077750000011.GIF" wi="1373" he="401" /> | ||
| 申请公布号 | CN104662001A | 申请公布日期 | 2015.05.27 |
| 申请号 | CN201380049701.8 | 申请日期 | 2013.12.19 |
| 申请人 | 株式会社API | 发明人 | 前田智子;上原久俊;齐藤保代;村井真人 |
| 分类号 | C07D211/60(2006.01)I;C07D498/08(2006.01)I;C12P7/42(2006.01)I;C07B61/00(2006.01)I;C07K14/21(2006.01)I;C12N15/09(2006.01)I | 主分类号 | C07D211/60(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 丁香兰;李洋 |
| 主权项 | 一种顺式‑5‑羟基‑2‑哌啶羧酸衍生物的制造方法，其特征在于，该方法包括以下工序：将顺式‑5‑羟基‑2‑哌啶羧酸转换为式(1)和/或式(2)的化合物，<img file="FDA0000687077720000011.GIF" wi="1565" he="436" />R<sup>1</sup>表示氨基的保护基，R<sup>2</sup>表示C1～C6的烷基。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||