发明名称 一种青瓷及其制备方法
摘要 本发明公布了一种青瓷及其制备方法,属于瓷器制造领域。所述青瓷的制备方法包括高岭土处理、大理石和闪长石处理、胎土配制、釉料配制、坯体成型与素烧、坯体施釉、烧制;高岭土处理包括对高岭土干燥、劲风扬吹、分料、水流冲刷沉淀、分层取料,筛选出用于制作胎土和釉料的原料高岭土,再配合独特的烧成气氛及升温曲线,烧制成色泽比现有青瓷更为沉着、含蓄,釉色呈半透明状,坯体胎色呈灰白或深褐色的青瓷,该方法不受历史技艺羁绊,胎釉可以细腻,也可以粗糙,釉光较为温润,釉色并不追求纯正,而是形成差异性的地域特色。
申请公布号 CN104649651A 申请公布日期 2015.05.27
申请号 CN201510091369.2 申请日期 2015.02.28
申请人 深圳职业技术学院 发明人 周汉新
分类号 C04B33/22(2006.01)I;C04B33/24(2006.01)I 主分类号 C04B33/22(2006.01)I
代理机构 深圳市精英专利事务所 44242 代理人 任哲夫
主权项 一种青瓷的制备方法,包括高岭土处理、大理石和闪长石处理、胎土配制、釉料配制、坯体成型与素烧、坯体施釉、烧制;其特征在于,所述高岭土处理的方法如下:S1:将高岭土加热干燥后粉碎;S2:粉碎的高岭土用8‑10m/s的劲风扬吹形成原料堆,将高岭土原料堆分成A<sub>0‑1</sub>原料和B<sub>1‑2</sub>原料;所述的A<sub>0‑1</sub>原料为原料堆沿劲风扬吹方向0‑1m之间的高岭土,B<sub>1‑2</sub>原料为原料堆沿劲风扬吹方向1‑2m之间的高岭土;S3:将B<sub>1‑2</sub>原料用1.0‑1.5m/s的水流冲刷后沉淀形成沉淀层,从上到下取上层五分之一厚度的沉淀层作为Y<sub>1</sub>原料,取五分之一至十分之九厚度的沉淀层为T<sub>1</sub>原料;将A<sub>0‑1</sub>原料用1.0‑1.5m/s的水流冲刷后沉淀形成沉淀层,从上到下取上层五分之一厚度的沉淀层作为Y<sub>2</sub>原料,取五分之一至十分之九厚度的沉淀层为T<sub>2</sub>原料;S4:将T<sub>1</sub>原料、T<sub>2</sub>原料分别与水按1:3比例混合后球磨4‑5小时,过60目筛后压力去水,得到对应的T<sub>1</sub>胎土原料、T<sub>2</sub>胎土原料;将Y<sub>1</sub>原料、Y<sub>2</sub>原料分别与水按1:4比例混合后球磨20‑25小时,过120目筛,干燥后得到对应的Y<sub>1</sub>釉原料、Y<sub>2</sub>釉原料。
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