发明名称 |
掩模、容器和制造装置 |
摘要 |
掩模、容器和制造装置通过对大面积基板进行选择性的蒸镀,本发明提供了掩模精度高的大型掩模。本发明将掩模本体固定在固定位置处,该固定位置是设置在通过掩模框架的热膨胀中心的线上的。还有,在本发明中,使掩模本体和基板固定,通过使蒸镀源沿X方向或Y方向移动来进行蒸镀。这种使蒸镀源沿X方向或Y方向移动的方法适合于大型基板的蒸镀。 |
申请公布号 |
CN102174688B |
申请公布日期 |
2015.05.27 |
申请号 |
CN201110099753.9 |
申请日期 |
2004.04.12 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
山崎舜平;坂田淳一郎;桑原秀明 |
分类号 |
C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;H01L21/203(2006.01)I;H01L21/308(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/04(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
吴娟;庞立志 |
主权项 |
制造装置,其是包含载入室、与所述载入室相连的运送室、与所述运送室相连的多个成膜室和与所述成膜室相连的设置室的制造装置,其特征在于,所述多个成膜室与用于将所述成膜室内部排真空的排气室相连,所述多个成膜室包含固定基板用装置、掩模、固定该掩模用框架、对准该掩模和基板用的对准装置、1个或2个蒸镀源、使该蒸镀源在所述成膜室内部移动的装置和加热基板用装置,和所述掩模的端部是粘结在与通过所述框架构件的热膨胀中心的线重合的位置上的。 |
地址 |
日本神奈川县厚木市 |