微光刻投射曝光设备的照明系统

摘要

一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括具有多个光入射分面(75)的光学积分器(60)，光入射分面的像至少基本上在掩模平面(88)中叠加。空间光调制器(52)以空间分辨方式透射或者反射投射光。光瞳形成单元将投射光引导到空间光调制器。物镜(58)将空间光调制器(52)的光出射面(57)成像到光学积分器(60)的光入射分面(75)上使得光出射面(57)上的目标区域(110)的像(110′)与光入射分面(75)中的一个完全重合。控制单元(90)控制空间光调制器(52)使得目标区域中的光图案形成在掩模(16)上的像的长度沿着扫描方向(Y)在扫描周期开始时逐渐地增大，在扫描周期结束时逐渐地减小。

主权项

一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，其中，所述照明系统配置成照明在掩模平面(88)中沿着扫描方向(Y)移动的掩模，以及其中，所述照明系统包括a)光学积分器(60)，配置成产生位于所述照明系统的光瞳平面(76)中的多个次级光源(106)，其中，所述光学积分器(60)包括多个光入射分面(75)，所述光入射分面中的每一个与所述次级光源(106)中的一个关联，以及其中，所述光入射分面的像至少基本上在所述掩模平面(88)内叠加，b)空间光调制器(52)，具有光出射面(57)并且配置成以空间分辨的方式透射或者反射照射的投射光，c)光瞳形成单元(36)，配置成将投射光引导到所述空间光调制器上，d)物镜(58)，将所述空间光调制器(52)的光出射面(57)成像到所述光学积分器(60)的光入射分面(75)上，使得在所述光出射面(57)上的目标区域(110)的像(110′)与所述光入射分面(75)中的一个完全重合，e)控制单元(90)，配置成控制所述空间光调制器(52)，使得所述目标区域中的光图案形成在所述掩模(16)上的像的长度沿着所述扫描方向(Y)在扫描周期开始时逐渐地增大，在所述扫描周期结束时逐渐地减小。