发明名称 |
光固化性组合物及使用该组合物的膜的制造方法 |
摘要 |
提供一种具有高填充性并能够在通过利用光压印法生产膜时降低脱模力的光固化性组合物,和使用该光固化性组合物的膜的制造方法。光固化性组合物为包括至少下列组分(A)至组分(C)的光固化性组合物:(A)可聚合化合物;(B)光聚合引发剂;和(C)由下列通式(1)表示的表面活性剂:Rf<sub>1</sub>-Rc-X (1)。 |
申请公布号 |
CN104662049A |
申请公布日期 |
2015.05.27 |
申请号 |
CN201380048860.6 |
申请日期 |
2013.09.11 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
伊藤俊树;三原知恵子;川崎阳司 |
分类号 |
C08F2/48(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;H01L23/532(2006.01)I;H05K3/10(2006.01)I |
主分类号 |
C08F2/48(2006.01)I |
代理机构 |
北京魏启学律师事务所 11398 |
代理人 |
魏启学 |
主权项 |
一种光固化性组合物,其特征在于,其包括至少下列组分(A)至组分(C):(A)可聚合化合物;(B)光聚合引发剂;和(C)由下列通式(1)表示的表面活性剂:Rf<sub>1</sub>‑Rc‑X (1)通式(1)中,Rf<sub>1</sub>表示仅由氟原子和碳原子组成并具有两个以上的三氟甲基的取代基,Rc表示聚环氧乙烷基团、聚环氧丙烷基团或亚烷基,和X表示羟基、羧基、磺基、氨基、烷氧基,或仅由氟原子和碳原子组成并具有两个以上的三氟甲基的取代基,条件是当X表示烷氧基或仅由氟原子和碳原子组成并具有两个以上的三氟甲基的取代基时,Rf<sub>1</sub>和X可彼此相同或不同。 |
地址 |
日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号 |