基板处理装置、基板保持装置及基板保持方法

摘要

本发明提供基板处理装置、基板保持装置及基板保持方法，尤其涉及即使是弯曲的基板也能够以简单的结构可靠地保持的技术。对基板实施描画处理的描画装置(1)具有：保持板(11)，形成有与基板(W)的背面相向的保持面(111)；真空吸引口(12)，形成在保持面(111)上，通过真空吸引来将基板(W)吸引在保持面(111)上；多个伯努利吸引口(13)，形成在保持面(111)上，通过伯努利吸引来将基板(W)吸引在保持面(111)上。在保持面(111)上规定有配置成与该保持面(111)的中心同心的圆形区域(M1)和配置成与圆形区域同心的圆环状区域(M2)，并且在圆形区域和圆环状区域分别配置有伯努利吸引口。

主权项

一种基板处理装置，用于对基板实施规定处理，其特征在于，具有：保持板，形成有与基板的背面相向的保持面，真空吸引口，形成在所述保持面上，通过真空吸引来将所述基板吸引在所述保持面上，多个伯努利吸引口，形成在所述保持面上，通过伯努利吸引来将所述基板吸引在所述保持面上；在所述保持面上规定有配置成与所述保持面的中心同心的圆形区域和配置成与所述圆形区域同心的圆环状区域，在所述圆形区域和所述圆环状区域分别配置有所述伯努利吸引口，该基板处理装置具有多个所述真空吸引口，在将所述圆环状区域沿着周向分割来规定的多个弧状区域及所述圆形区域各自的区域，分别配置有所述真空吸引口和所述伯努利吸引口；该基板处理装置具有：堤部，以分别包围所述多个弧状区域及所述圆形区域的方式立起设置，多个突起部，立起设置在被所述堤部包围的所述保持面内的各区域中；所述堤部的顶部和所述多个突起部的顶部位于同一平面内。