发明名称 电极组件的制造方法
摘要 本发明的电极组件的制造方法包括:第一步骤,制造具有使相同数量的电极和隔膜交替地层叠而成的结构的一种基本单体或具有使相同数量的电极和隔膜交替地层叠而成的结构的两种以上的基本单体;以及第二步骤,反复层叠一种基本单体或者按指定的顺序层叠两种以上的基本单体,来制造单体堆叠部。在此,隔膜的末端不与相邻的隔膜的末端接合。并且,一种基本单体具有使第一电极、第一隔膜、第二电极及第二隔膜依次层叠而成的四层结构或使四层结构反复层叠而成的结构,并且,若将两种以上的基本单体按指定的顺序每次各层叠一个,则形成四层结构或使四层结构反复层叠而成的结构。
申请公布号 CN104662724A 申请公布日期 2015.05.27
申请号 CN201480002517.2 申请日期 2014.05.23
申请人 株式会社LG化学 发明人 朴志元;刘承宰;高明勋;潘镇浩;李香穆
分类号 H01M10/04(2006.01)I;H01M10/058(2006.01)I;H01M10/0585(2006.01)I;H01M2/14(2006.01)I 主分类号 H01M10/04(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 金龙河;穆德骏
主权项 一种电极组件的制造方法,其特征在于,包括:第一步骤,制造具有使相同数量的电极和隔膜交替地层叠而成的结构的一种基本单体或具有使相同数量的电极和隔膜交替地层叠而成的结构的两种以上的基本单体;以及第二步骤,反复层叠所述一种基本单体或者按指定的顺序层叠所述两种以上的基本单体,来制造单体堆叠部,所述隔膜的末端不与相邻的隔膜的末端接合,所述一种基本单体具有使第一电极、第一隔膜、第二电极及第二隔膜依次层叠而成的四层结构或使所述四层结构反复层叠而成的结构,若将所述两种以上的基本单体按指定的顺序每次各层叠一个,则形成所述四层结构或使所述四层结构反复层叠而成的结构。
地址 韩国首尔