发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 <p>본 발명은 소스 전극 또는 드레인 전극의 막 두께의 격차 또는 단선을 방지한 반도체 장치를 용이하게 제작하는 방법을 제안한다. 절연 기판상에 형성된 반도체층과, 반도체층상에 형성된 제 1 절연층과, 제 1 절연층상에 형성된 게이트 전극과, 게이트 전극상에 형성된 제 2 절연층을 갖고, 적어도 제 1 절연층, 및 제 2 절연층에 형성된 반도체층에 도달하는 개구부와, 상기 개구부에서 상기 제 2 절연층의 측면에 형성된 단차를 갖는다.</p>
申请公布号 KR101522860(B1) 申请公布日期 2015.05.26
申请号 KR20140089817 申请日期 2014.07.16
申请人 发明人
分类号 H01L29/786 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
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