发明名称 FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD AND STORAGE MEDIUM
摘要 <p>본 발명의 성막 장치는 진공 용기 내에 설치되어, 기판을 적재하기 위해 설치된 기판 적재 영역을 포함하는 회전 테이블과, 상기 회전 테이블의 기판 적재 영역측의 면을 향해 제1 반응 가스를 공급하도록 구성된 제1 반응 가스 공급 수단과, 상기 회전 테이블의 둘레 방향으로 상기 제1 반응 가스 공급 수단으로부터 이격되어 배치되어, 상기 회전 테이블의 기판 적재 영역측의 면을 향해 제2 반응 가스를 공급하도록 구성된 제2 반응 가스 공급 수단과, 제1 반응 가스가 공급되는 제1 처리 영역과 제2 반응 가스가 공급되는 제2 처리 영역의 분위기를 분리하기 위해 상기 둘레 방향에 있어서 이들 처리 영역 사이에 위치하는 분리 영역과, 상기 분리 영역의 양측으로 확산되는 분리 가스를 공급하는 분리 가스 공급 수단과, 상기 분리 가스 공급 수단에 공급되는 분리 가스를 가열하는 가열부와, 상기 회전 테이블에 공급된 상기 제1 반응 가스, 상기 제2 반응 가스 및 상기 분리 가스를 배기하기 위한 배기구와, 상기 기판에 박막을 적층하기 위해 상기 제1 반응 가스, 상기 제2 반응 가스 및 상기 분리 가스가 상기 회전 테이블에 공급되어 있을 때에, 상기 회전 테이블을 자전시키는 구동부를 구비한다.</p>
申请公布号 KR101522739(B1) 申请公布日期 2015.05.26
申请号 KR20090080147 申请日期 2009.08.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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