Verfahren zur in situ Reinigung kontaminierter Grundwässer

摘要

Verfahren zur in situ Reinigung von kontaminiertem Grundwasser mittels chemischer Oxidation und mikrobiologischem Abbau von Schadstoffen, wobei das Grundwasser in einem ersten Verfahrensschritt mit Hilfe einer Ozon-Injektionseinheit (1) mit einem Ozon-Sauerstoff-Gemisch gesättigt wird, wodurch eine Ausbreitung des Ozon-Sauerstoff-Gemischs im Grundwasser in Fließrichtung erfolgt, wobei die Ozon-Sauerstoff-Gemisch-Dosierung mittels Messung von Prozessparametern in einem Überwachungspegel (2) geregelt wird, anschließend eine definierte Grundwassermenge durch eine Entnahmeeinheit (3) aus dem Grundwasser entnommen und durch eine Reinfiltrationseinheit (4), die sich–in Fließrichtung des Grundwassers betrachtet–vor der Ozon-Injektionseinheit (1) befindet, wieder in das Grundwasser zurückgeführt wird.