发明名称 Verfahren zum Behandeln eines lasertransparenten Substrats zum anschließenden Trennen des Substrats
摘要 Vorgeschlagen wird Verfahren zum Behandeln eines lasertransparenten Substrats (1) zum anschließenden Trennen des Substrats (1) entlang eines Trennbereichs (2), mit folgenden Verfahrensschritten: a.) Bestrahlen des Substratinneren an einer Substratposition (3) mit derart eingestellten Strahlparametern (zr, w0, l0, λ) eines Laserstrahls (4), dass im Laserstrahl (4) ein in der Strahlrichtung (11) keulenförmiger oder sich birnenförmig verjüngender Volumenbereich (5) gebildet wird, in welchem eine Schwellfluenz (&phis;s) zum Erzeugen einer Modifikation überschritten ist, um im Substratinneren an der Substratposition (3) einen modifizierten Bereich (8) zu erzeugen, b.) Durchführen des Schritts a.) an mindestens einer weiteren Substratposition (3') zum Ausbilden eines die modifizierten Bereiche (8) umfassenden Trennbereichs (2).
申请公布号 DE102013223637(A1) 申请公布日期 2015.05.21
申请号 DE201310223637 申请日期 2013.11.20
申请人 TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH 发明人 KLEINER, JONAS;GROSSMANN, DANIEL
分类号 B23K26/402;C03B33/02;H01L21/301 主分类号 B23K26/402
代理机构 代理人
主权项
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