发明名称 基板处理装置
摘要
申请公布号 TWI485798 申请公布日期 2015.05.21
申请号 TW098130640 申请日期 2009.09.11
申请人 日立国际电气股份有限公司 发明人 高桥哲;野内英博;坂田雅和
分类号 H01L21/677 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种基板处理装置,具有:搬运室;及处理室,系处理基板;第1基板搬运构件,将基板从该搬运室搬运到该处理室;第1基板载置台,系具有将所载置的基板加热之第1加热器;第2基板载置台,系具有将所载置的基板加热之第2加热器;第1基板保持部,系在该第1基板载置台上维持既定距离而保持基板;第2基板保持部,系在该第2基板载置台上维持该既定距离而保持基板;第2基板搬运构件,系设置在该第1基板载置台与该第2基板载置台之间,从该第1基板搬运构件接承基板,再将基板载置于该第2基板保持部,在进行该基板的处理时,可待机于该第1基板载置台或该第2基板载置台的外周下侧;及该处理室包含有该第1基板载置台、该第2基板载置台和该第2基板搬运构件,设置有该第1基板载置台与该第2基板载置台的空间是连通的。
地址 日本