| 发明名称 |
气体处理装置 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI484996 |
申请公布日期 |
2015.05.21 |
| 申请号 |
TW101147112 |
申请日期 |
2006.03.28 |
| 申请人 |
三井化学股份有限公司 |
发明人 |
佐佐木佑明;高桥宏典;前场功之;内藤隆夫;寺田晃一郎;山口贵史;佐伯卓哉 |
| 分类号 |
B01D53/14;B01D53/70;B01D53/78;C01B7/04;C01B7/07;C08G18/64 |
主分类号 |
B01D53/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
| 主权项 |
一种气体处理装置，系使气体与处理液接触而处理气体用之气体处理装置，其特征为备有：使气体与处理液进行气液接触之气液接触室；配置于上述气液接触室之上方，储留处理液之储留室；用以藉由重力落下将上述储留室内之处理液供应到上述气液接触室内之处理液供应装置；其中，上述气液接触室、上述储留室及上述处理液供应装置系包含于处理槽中；在上述处理槽中，设有以上下方向分隔上述处理槽内部之填充物支持板；以及设有在上述填充物支持板上侧设置之储留室底板；上述气液接触室系被划分成在上述填充物支持板及上述储留室底板间之上述处理槽之内部空间；上述储留室系被划分成上述储留室底板上方之上述储留室的内部空间。 |
| 地址 |
日本 |
