| 发明名称 |
ハードマスク組成物用モノマー、前記モノマーを含むハードマスク組成物および前記ハードマスク組成物を用いたパターン形成方法 |
| 摘要 |
化学式１で表されるハードマスク組成物用モノマー、前記モノマーを含むハードマスク組成物およびこれを用いたパターン形成方法に関する。【選択図】なし |
| 申请公布号 |
JP2015515112(A) |
申请公布日期 |
2015.05.21 |
| 申请号 |
JP20140549963 |
申请日期 |
2012.11.29 |
| 申请人 |
チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド |
发明人 |
キム，ユン−ジュン;チョン，ファン−サン;チョウ，ユン−ジン;ユン，ヨン−ウォン;リー，チャン−ホン;クォン，ヒョ−ヨン;チョイ，ヨウ−ジョン |
| 分类号 |
H01L21/3065;C08G65/34;G03F7/11;G03F7/26;H01L21/027;H01L21/312 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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