发明名称 消除掩膜板自磁化方法、基板制作方法、掩膜板检测装置
摘要 本发明公开了一种消除掩膜板自磁化方法、基板制作方法、掩膜板检测装置,该掩膜板包括多个相互间隔开的金属条,该消除掩膜板自磁化方法包括:向掩膜板加电,使多个金属条带上同种电荷,从而使发生粘接的相邻金属条分离。本发明使产生粘接的掩膜板带上电荷,根据同性电荷相斥的原理使发生粘接的金属条自行分离。本发明不仅可以在掩膜板检测设备使用,缩短掩膜板检测设备查找Mask产生不良的周期;还可以应用于蒸镀设备中消除掩膜板在搬运途中因震动而再次发生的粘接不良,从而有效地降低实际生产过程中发生的EV Mask产生不良,进而提升AMOLED产品的良率,降低生产成本。
申请公布号 CN104630704A 申请公布日期 2015.05.20
申请号 CN201510104512.7 申请日期 2015.03.10
申请人 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 发明人 吴岩;尚跃东;吴永凯;冯建斌;张国苹;李钧宇;张博
分类号 C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 李相雨;宋平
主权项 一种消除掩膜板自磁化的方法,其特征在于,所述掩膜板包括多个相互间隔开的金属条,所述方法包括如下步骤:向掩膜板加电,使所述多个金属条带上同种电荷,从而使发生粘接的相邻金属条分离。
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