用于光刻设备的掩模重力补偿装置

摘要

本发明提出一种用于光刻设备的掩模重力补偿装置，其特征在于，包括：一掩模，该掩模通过位于掩模下方分布于两侧的吸附装置放置于一掩模台上，该掩模的上表面设置两个水平位置固定的吸附条，根据该掩模运动时的不同位置，调整该吸附条的压力值，以补偿该掩模因自身重量产生的形变；所述吸附条通过调节与其连接的流量控制器、比例调压阀或磁服阀来控制吸附条的抽速。

主权项

一种用于光刻设备的掩模重力补偿装置，其特征在于，包括：一掩模，所述掩模通过位于掩模下方分布于两侧的吸附装置放置于一掩模台上，所述掩模的上表面设置两个水平位置固定的吸附条，根据所述掩模运动时的不同位置，调整所述吸附条的压力值，以补偿所述掩模因自身重量产生的形变；所述吸附条通过调节与其连接的流量控制器、比例调压阀或磁服阀来控制吸附条的抽速。