发明名称 A FLUID HANDLING STRUCTURE, A LITHOGRPHIC APPARATUS AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 <p>리소그래피 장치용 유체 핸들링 구조를 제공하며, 본 발명의 유체 핸들링 구조는 액체를 공간에 제한하기 위한 것이며, 공간을 둘러싸는 하면(undersurface) 상에, 유체 핸들링 구조의 하면 상에 액체를 공급하기 위한 액체 공급 개구부와, 액체 공급 개구부의 공간에 대하여 방사상 내측에, 공간으로부터 액체를 추출하고 액체 공급 개구부로부터의 하면 상의 액체를 추출하기 위한 액체 추출 개구부의 2차원 어레이를 갖는다.</p>
申请公布号 KR101521953(B1) 申请公布日期 2015.05.20
申请号 KR20120117513 申请日期 2012.10.22
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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