发明名称 | 线扫描装置 | ||
摘要 | 本发明的目的在于提供一种可以谋求可靠性提高的线扫描装置。本发明具备:照射喷嘴(2),照射线扫描射束;照射位置传感器(11),检测线扫描射束的照射位置;运算处理电路部(13),测定在照射位置传感器(11)检测出的照射位置的线扫描射束的停留时间;照射控制部(14),利用照射位置传感器(11)检测出的照射位置和运算处理电路部(13)测定出的停留时间,对线扫描射束进行扫描控制。根据该线扫描装置(1),利用线扫描射束的照射位置及与该照射位置对应的停留时间,对线扫描射束进行扫描控制,由此可以更可靠地防止射束向错误位置的照射或过量照射,从而可以谋求线扫描装置的可靠性的提高。 | ||
申请公布号 | CN102188775B | 申请公布日期 | 2015.05.20 |
申请号 | CN201010537488.3 | 申请日期 | 2010.11.05 |
申请人 | 住友重机械工业株式会社 | 发明人 | 井上淳一 |
分类号 | A61N5/10(2006.01)I | 主分类号 | A61N5/10(2006.01)I |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 夏斌;陈萍 |
主权项 | 一种线扫描装置,其特征在于,具备:射束照射机构,照射线扫描射束;照射位置检测机构,被设置在所述射束照射机构内,检测所述线扫描射束的照射位置;停留时间测定机构,测定在所述照射位置检测机构检测出的所述照射位置的所述线扫描射束的停留时间;扫描控制机构,利用所述照射位置检测机构检测出的所述照射位置和所述停留时间测定机构测定出的所述停留时间,对所述线扫描射束进行扫描控制;存储器,存储与所述线扫描射束的照射位置、所述线扫描射束的停留时间、及所述线扫描射束的轨迹相关的信息;运算处理机构,对所述存储器中所存储的所述线扫描射束的照射位置、所述存储器中所存储的所述线扫描射束的停留时间、及所述存储器中所存储的所述线扫描射束的轨迹、与所述照射位置检测机构检测出的所述线扫描射束的照射位置、所述停留时间测定机构检测出的所述线扫描射束的停留时间、及根据所述照射位置检测机构的检测结果得到的所述线扫描射束的轨迹进行比较,进行有无异常判定;以及联锁控制机构,利用所述照射位置检测机构检测出的所述照射位置和所述停留时间测定机构测定出的所述停留时间,进行联锁控制,所述联锁控制机构在所述运算处理机构判定为有异常的情况下,停止所述线扫描射束的照射。 | ||
地址 | 日本东京都 |