发明名称 一种基于SOI的横向恒流二极管及其制造方法
摘要 本发明提供了一种基于SOI的横向恒流二极管及其制造方法,属于半导体功率器件技术领域。所述基于SOI的横向恒流二极管由多个结构相同的元胞叉指连接形成,所述元胞包括衬底,N型轻掺杂硅、P型重掺杂区、N型重掺杂区、氧化介质层、金属阴极、金属阳极、P型掺杂区、埋氧层;P型重掺杂区位于N型重掺杂区和P型掺杂区之间,N型重掺杂区部分包含于P型重掺杂区之中,N型重掺杂区与P型重掺杂区短接并与金属阴极欧姆接触,P型掺杂区与金属阳极欧姆接触。本发明恒流二极管采用PN结短接结构,可减小芯片面积,降低成本;同时采用SOI技术,可有效防止在集成系统中衬底漏电流带来的不利影响。
申请公布号 CN104638024A 申请公布日期 2015.05.20
申请号 CN201510081821.7 申请日期 2015.02.15
申请人 电子科技大学 发明人 乔明;于亮亮;代刚;陈钢;张波
分类号 H01L29/861(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I 主分类号 H01L29/861(2006.01)I
代理机构 电子科技大学专利中心 51203 代理人 李明光
主权项 一种基于SOI的横向恒流二极管,由多个结构相同的元胞叉指连接形成,所述元胞包括衬底(2),绝缘层上N型轻掺杂硅(3)、P型重掺杂区(4)、N型重掺杂区(5)、氧化介质层(6)、金属阴极(7)、金属阳极(8)、P型掺杂区(9)、埋氧层(10);所述埋氧层(10)位于衬底(2)之上,所述N型轻掺杂硅(3)位于埋氧层(10)之上,所述P型重掺杂区(4)、N型重掺杂区(5)和P型掺杂区(9)位于N型轻掺杂硅(3)之中,所述P型重掺杂区(4)位于N型重掺杂区(5)和P型掺杂区(9)之间,所述N型重掺杂区(5)部分包含于P型重掺杂区(4)之中,所述N型重掺杂区(5)与P型重掺杂区(4)短接并与金属阴极(7)形成欧姆接触,所述P型掺杂区(9)与金属阳极(8)形成欧姆接触。
地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号