自动曝光控制系统

摘要

一种自动曝光控制系统。所述自动曝光控制系统包括：高压控制器、电离室、高压发生器和校正单元，所述校正单元，连接高压控制器和电离室，适于接收高压控制器发送的场选择信号或/和自动曝光控制阈值，选择与接收到的所述场选择信号或/和自动曝光控制阈值相对应的增益系数以对所述电离室发送的检测信号进行校正，并将校正结果发送至高压发生器；所述高压发生器连接高压控制器，适于接收所述自动曝光控制阈值，并在校正单元发送的校正结果等于所述自动曝光控制阈值时停止发送控制信号。本发明自动曝光控制系统通过对电离室发送的检测信号进行校正，使得曝光时间更加精准，从而提高了曝光的成像效果，使得曝光形成的图像更加符合需求。

主权项

一种自动曝光控制系统，其特征在于，包括：高压控制器，适于发送场选择信号和自动曝光控制阈值；电离室，连接所述高压控制器，适于接收所述场选择信号，并将检测到的与所述场选择信号对应的场内的射线剂量转换成电压值以形成检测信号；校正单元，连接所述高压控制器和所述电离室，适于接收所述场选择信号或/和自动曝光控制阈值，选择与接收到的所述场选择信号或/和自动曝光控制阈值相对应的增益系数以对所述电离室发送的检测信号进行校正，并将校正结果发送至高压发生器；所述高压发生器连接所述高压控制器，适于接收所述自动曝光控制阈值，并在所述校正单元发送的校正结果等于所述自动曝光控制阈值时停止发送控制信号。