提升辐射加热基板的冷却的设备及方法

摘要

本发明大致上涉及用于处理基板的方法与设备。本发明的实施例包括用于处理基板的设备，该设备包括动态热沉，该动态热沉对于来自辐射热源的光是实质上透明的，该动态热沉定位成靠近该基板而使两者耦接。本发明的额外实施例涉及使用所描述的设备来处理基板的方法。

主权项

一种用于处理基板的设备，所述基板具有前侧与背侧，所述设备包括：工艺区域，所述工艺区域位于腔室内，且所述工艺区域的一侧由邻近辐射热源的窗来限定，所述辐射热源设置在所述工艺区域外面；动态热沉，所述动态热沉由独立的热沉支撑件所支撑并且定位在所述工艺区域中，且对于来自所述辐射热源的光是实质上透明的；以及基板支撑件，所述基板支撑件与所述独立的热沉支撑件可独立地移动，并且所述基板支撑件定位在所述工艺区域中，以在热处理期间将所述基板保持成邻近所述动态热沉在一个位置，使得所述基板的所述前侧与所述背侧的至少一个面对所述辐射热源且使得所述动态热沉耦接到所述基板以从所述基板吸收热，其中所述独立的热沉支撑件是可操作以移动所述动态热沉，使得在所述动态热沉与所述基板之间存在有可改变的间隙。