光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明涉及光刻设备，该光刻设备具有构造用于保持衬底的衬底台和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列(924、930)。光刻设备具有用于相对于衬底移动光学装置列或其一部分的致动器(928)。光学装置列或其一部分移动通过介质使得在光学装置列或其一部分上引起热负载。光刻设备被构造或操作用于减小热负载对光刻设备的操作的影响。

主权项

一种光刻设备，包括：光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上；致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或其一部分；和补偿装置，用于减小通过使光学装置列或其的一部分移动通过介质而引起的在光学装置列或其的一部分上的热负载的影响；调制器，包括发射电磁辐射的多个独立可控辐射源，配置成使所述衬底的曝光区域由根据期望的图案调制的多个束进行曝光。