彩膜基板的制备方法、彩膜基板及半反半透式液晶显示装置

摘要

本发明涉及液晶显示技术领域，公开了一种彩膜基板的制备方法包括制备黑矩阵的掩模板，针对特定颜色亚像素在黑矩阵的掩模板上设有特定的光孔填充图案；制备彩膜的掩模板，针对不同颜色亚像素制备的彩膜的掩模板上设有大小相同的通光孔；且所述通光孔的位置与所述光孔填充图案的位置相对应；利用所述黑矩阵的掩模板和所述彩膜的掩模板制备彩膜基板。本发明还公开一种彩膜基板及半反半透式液晶显示装置，实现了使用一个彩膜的掩膜板制备具有不同实际通光孔大小的红、绿、蓝亚像素彩膜层，从而保证所述彩膜基板应用于显示装置保证显示效果的同时，降低了彩膜基板的生产成本。

主权项

一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、制备黑矩阵的掩模板，针对特定颜色亚像素在黑矩阵的掩模板上设有特定的光孔填充图案；S2、制备彩膜的掩模板，针对不同颜色亚像素制备的彩膜的掩模板上设有大小相同的通光孔；且所述通光孔的位置与所述光孔填充图案的位置相对应；S3、利用所述黑矩阵的掩模板和所述彩膜的掩模板制备彩膜基板。