发明名称 原料填充方法、单晶的制造方法及单晶制造装置
摘要 本发明涉及一种原料填充方法,在具有圆筒部件及锥形阀的再装填管中收容原料,其中,所述圆筒部件为石英制并收容原料,所述锥形阀用于开闭该圆筒部件下端的开口部,在将该收容有原料的再装填管安置在腔室内,使锥形阀下降,打开圆筒部件下端的开口部,由此向石英坩埚内投入收容在再装填管内的原料,其特征在于,配置再装填管及石英坩埚,使开始投入原料时所述再装填管的下端与石英坩埚内的原料或者熔液的距离为200mm以上250mm以下,之后,以石英坩埚的下降速度(CL)与再装填管的锥形阀的下降速度(SL)之比(CL/SL)为1.3以上1.45以下的方式,一边使石英坩埚和再装填管的锥形阀同时下降,一边投入原料。由此,能够抑制石英坩埚或再装填管的破损。
申请公布号 CN104641024A 申请公布日期 2015.05.20
申请号 CN201380048354.7 申请日期 2013.10.28
申请人 信越半导体株式会社 发明人 北川胜之;浦野雅彦;吉田胜浩
分类号 C30B15/02(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I 主分类号 C30B15/02(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 谢顺星;张晶
主权项 一种原料填充方法,在具有向石英坩埚内填充原料的工序、在所述石英坩埚内熔融所述原料形成熔液的工序以及从该熔液中提拉单晶的工序的单晶的制造中,在向所述石英坩埚内填充原料的工序中,在具有圆筒部件及锥形阀的再装填管中收容所述原料,其中,所述圆筒部件为石英制并收容所述原料,所述锥形阀用于开闭该圆筒部件下端的开口部,将该收容有原料的再装填管安置在腔室内,使所述锥形阀下降,打开所述圆筒部件下端的开口部,由此向所述石英坩埚内投入收容在所述再装填管内的原料,其特征在于,配置所述再装填管及所述石英坩埚,使开始投入所述原料时所述再装填管的下端与所述石英坩埚内的原料或者熔液的距离为200mm以上250mm以下,之后,以所述石英坩埚的下降速度(CL)与所述再装填管的锥形阀的下降速度(SL)之比(CL/SL)为1.3以上1.45以下的方式,一边使所述石英坩埚和所述再装填管的锥形阀同时下降,一边投入所述原料。
地址 日本东京都