通过惰性气体离子轰击制造多孔金属膜

摘要

本发明涉及一种用于多孔金属膜(孔大小10nm至1μm)的生产制造过程，所述金属膜的应用和相应的过滤模块。此外，孔隙率应该很高，使得其明显优于离子轨迹工艺。此外，应该尽可能放弃使用化学制品。切块(Dice)在1-20微米。根据本发明，使用等离子浸没离子注入工艺，该工艺是利用通过第一加速电压加速惰性气体以轰击非常薄的金属箔，特别地是从金属箔的两侧。选择离子流，使得在金属箔中引起过饱和。特别是在金属表面下在过饱和之后通过泡沫隔离而形成孔隙。在金属表面下孔隙开口的形成是通过离子注入产生的表面雾化而实现的，其使用惰性气体离子通过比第一加速电压低的第二加速电压的轰击而实现。

主权项

一种制造多孔金属膜的方法，包括下列步骤：a.在包含至少一种惰性气体的环境中提供具有厚度至20μm的金属箔，b.产生包含至少一种惰性气体离子的等离子，c.通过设置第一加速电压使用惰性气体离子轰击金属箔，及d.随后，在第二加速电压下使用惰性气体离子轰击金属箔，所述第二加速电压低于第一加速电压。