发明名称 | 一种可控吸声结构 | ||
摘要 | 本实用新型涉及吸声技术领域,特别是涉及一种可控吸声结构。该结构包括基体和固定设置在基体上的压电薄膜,两者之间设有空腔,所述压电薄膜上设有多个贯通的吸声孔;所述噪声频率采集元件用于获取环境噪声频率;所述电压调制电路通过引线与所述压力薄膜电连接,且所述电压调制电路的信号接收端口与噪声频率采集元件的信号输出端口连接,以施加激励电压至所述压电薄膜。与现有技术相比,工作过程中,电压调制电路可施加激励电场至压电薄膜,形变使得其上的吸声孔的孔径产生相应的改变,从而实现该吸声结构对于不同频率噪声的可控主动吸声性能,扩大了该吸声结构的有效吸声频带。与现有技术相比,具有结构加工容易,生产成本低,吸声效果显著的特点。 | ||
申请公布号 | CN204348331U | 申请公布日期 | 2015.05.20 |
申请号 | CN201420865090.6 | 申请日期 | 2014.12.29 |
申请人 | 北京市劳动保护科学研究所 | 发明人 | 赵俊娟;李贤徽;张斌;王月月 |
分类号 | G10K11/16(2006.01)I | 主分类号 | G10K11/16(2006.01)I |
代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李相雨 |
主权项 | 一种可控吸声结构,其特征在于,包括:基体;固定设置在所述基体上的压电薄膜,两者之间设有空腔,所述压电薄膜上设有多个贯通的吸声孔;噪声频率采集元件,用于获取环境噪声频率;电压调制电路,通过引线与所述压力薄膜电连接,且所述电压调制电路的信号接收端口与所述噪声频率采集元件的信号输出端口连接,以施加激励电压至所述压电薄膜。 | ||
地址 | 100054 北京市西城区陶然亭路55号 |