发明名称 |
一种耐高温平面结构型超高压二极管芯片 |
摘要 |
一种耐高温平面结构型超高压二极管芯片。提供了一种耐温性能高,正反向浪涌能力有较大提升的耐高温平面结构型超高压二极管芯片。所述芯片本体呈薄片状,芯片本体上部设有主结和顶面电极,芯片本体下部设有衬底和底面电极,在所述主结外圈还设有3-5圈场限环;在最外圈场限环的外部还设有一圈截止环;所述至少两圈场限环的顶面高度与所述主结顶面高度一致,所述至少两圈场限环的深度与所述主结的深度一致;所述截止环的顶面高度与所述主结的顶面高度一致;各所述场限环的宽度不等。本发明大大提升了产品的高温性能,达到Tj=175℃不失效,正反向浪涌能力有较大提升。 |
申请公布号 |
CN102956685B |
申请公布日期 |
2015.05.20 |
申请号 |
CN201210437350.5 |
申请日期 |
2011.10.19 |
申请人 |
扬州杰利半导体有限公司 |
发明人 |
裘立强;汪良恩;谢盛达;葛宜威 |
分类号 |
H01L29/06(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/06(2006.01)I |
代理机构 |
南京纵横知识产权代理有限公司 32224 |
代理人 |
董建林 |
主权项 |
一种耐高温平面结构型超高压二极管芯片,所述芯片本体呈薄片状,芯片本体上部设有主结和顶面电极,芯片本体下部设有衬底和底面电极,在所述主结外圈还设有3‑5圈场限环;在最外圈场限环的外部还设有一圈截止环;所述3‑5圈场限环的顶面高度与所述主结顶面高度一致,所述3‑5圈场限环的深度与所述主结的深度一致;所述截止环的顶面高度与所述主结的顶面高度一致;其特征在于,各所述场限环的宽度不等;在所述截止环顶面边缘向内1/5‑1/2的顶面宽度尺寸为起点至所述主结顶面边缘向内1/50‑1/20的顶面直径尺寸为终点的范围内设有组合钝化保护层;所述组合钝化保护层覆盖:所述截止环顶面起点内的部分、最外圈场限环至截止环之间的间隙、各场限环顶面、各场限环之间的间隙、最内圈场限环至主结外圆之间的间隙以及所述主结终点外的部分;所述组合钝化保护层由内及表包括半绝缘多晶硅薄膜层、钝化玻璃层和二氧化硅膜层。 |
地址 |
225008 江苏省扬州市平山堂北路江阳创业园三期 |