| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法和显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种阵列基板及其制作方法，该阵列基板包括：薄膜晶体管，与薄膜晶体管的有源层同层设置的辅助电极，以及与辅助电极电连接的透明阴极，其中所述有源层为氧化物半导体，所述辅助电极为经等离子体处理过的氧化物半导体。根据本发明的技术方案，将有源层和辅助电极设置于同一层，因此可通过同一道刻蚀工艺形成有源层和辅助电极，无需增设形成辅助电极的工艺，从而减少阵列基板的整体工艺时间，节约了制作成本。 | ||
| 申请公布号 | CN104637956A | 申请公布日期 | 2015.05.20 |
| 申请号 | CN201510057108.9 | 申请日期 | 2015.02.03 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 齐永莲;张锋;王东方 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李相雨 |
| 主权项 | 一种阵列基板，其特征在于，包括：薄膜晶体管，与所述薄膜晶体管的有源层同层设置的辅助电极，以及与所述辅助电极电连接的透明阴极，其中所述有源层为氧化物半导体，所述辅助电极为经等离子体处理过的氧化物半导体。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||