发明名称 |
含金属氧化物微粒膜、转印膜及其制造方法和层积体及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种以含金属氧化物微粒膜作为中折射率膜的转印膜,所述含金属氧化物微粒膜具有不存在金属氧化物微粒的膜区域、形成于膜区域的一侧的存在金属氧化物微粒的膜表层区域(a1)和形成于膜区域的另一侧的存在金属氧化物微粒的膜表层区域(a2)。该转印膜可以得到防污性、防反射性、透明性和耐汗性优良且耐擦伤性优良、干涉条纹得到抑制的层积体。采用该转印膜,能得到防污性、防反射性、透明性和耐汗性优良且耐擦伤性优良、干涉条纹得到抑制的层积体。 |
申请公布号 |
CN103384839B |
申请公布日期 |
2015.05.20 |
申请号 |
CN201180068284.2 |
申请日期 |
2011.12.22 |
申请人 |
三菱丽阳株式会社 |
发明人 |
冈藤宏;川合治;沢野哲哉;山泽英人 |
分类号 |
G02B1/118(2015.01)I;G02B1/111(2015.01)I;B32B5/14(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;C08G65/333(2006.01)I |
主分类号 |
G02B1/118(2015.01)I |
代理机构 |
上海市华诚律师事务所 31210 |
代理人 |
刘香兰 |
主权项 |
一种含金属氧化物微粒膜,其具有不存在金属氧化物微粒的膜中央区域、存在金属氧化物微粒的膜表层区域a1和存在金属氧化物微粒的膜表层区域a2,所述膜表层区域a1在于膜中央区域的一侧,所述膜表层区域a2在于膜中央区域的另一侧,其中,在含金属氧化物微粒膜的厚度方向的截面中,膜中央区域厚度Tbi和Tci,即以含金属氧化物微粒膜的中心为起点,至膜表层区域a1与膜中央区域的界面的厚度为Tbi,至膜表层区域a2与膜中央区域的界面的厚度为Tci;膜表层区域a1的厚度为Tai;膜表层区域a2的厚度为Tdi;其中Tbi、Tci、Tai、Tdi分别表示第i个膜中央区域或膜表层区域a1和膜表层区域a2的厚度,T表示含金属氧化物微粒膜的厚度,上述厚度满足下述式(1)~(4),0.1T≦Tbi≦0.4T (1):Tai=0.5T‑Tbi (2);0.1T≦Tci≦0.4T (3);Tdi=0.5T‑Tci (4);且在含金属氧化物微粒膜的厚度方向的截面中,在截面内的垂直于厚度方向的1200nm长度的含金属氧化物微粒膜中,不存在金属氧化物微粒的膜中央区域的长度Li的总长度L为240nm以上,其中Li表示第i个不存在金属氧化物微粒的膜中央区域的长度。 |
地址 |
日本国东京都千代田区丸之内1丁目1番1号 |