发明名称 含金属氧化物微粒膜、转印膜及其制造方法和层积体及其制造方法
摘要 本发明提供一种以含金属氧化物微粒膜作为中折射率膜的转印膜,所述含金属氧化物微粒膜具有不存在金属氧化物微粒的膜区域、形成于膜区域的一侧的存在金属氧化物微粒的膜表层区域(a1)和形成于膜区域的另一侧的存在金属氧化物微粒的膜表层区域(a2)。该转印膜可以得到防污性、防反射性、透明性和耐汗性优良且耐擦伤性优良、干涉条纹得到抑制的层积体。采用该转印膜,能得到防污性、防反射性、透明性和耐汗性优良且耐擦伤性优良、干涉条纹得到抑制的层积体。
申请公布号 CN103384839B 申请公布日期 2015.05.20
申请号 CN201180068284.2 申请日期 2011.12.22
申请人 三菱丽阳株式会社 发明人 冈藤宏;川合治;沢野哲哉;山泽英人
分类号 G02B1/118(2015.01)I;G02B1/111(2015.01)I;B32B5/14(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;C08G65/333(2006.01)I 主分类号 G02B1/118(2015.01)I
代理机构 上海市华诚律师事务所 31210 代理人 刘香兰
主权项 一种含金属氧化物微粒膜,其具有不存在金属氧化物微粒的膜中央区域、存在金属氧化物微粒的膜表层区域a1和存在金属氧化物微粒的膜表层区域a2,所述膜表层区域a1在于膜中央区域的一侧,所述膜表层区域a2在于膜中央区域的另一侧,其中,在含金属氧化物微粒膜的厚度方向的截面中,膜中央区域厚度Tbi和Tci,即以含金属氧化物微粒膜的中心为起点,至膜表层区域a1与膜中央区域的界面的厚度为Tbi,至膜表层区域a2与膜中央区域的界面的厚度为Tci;膜表层区域a1的厚度为Tai;膜表层区域a2的厚度为Tdi;其中Tbi、Tci、Tai、Tdi分别表示第i个膜中央区域或膜表层区域a1和膜表层区域a2的厚度,T表示含金属氧化物微粒膜的厚度,上述厚度满足下述式(1)~(4),0.1T≦Tbi≦0.4T   (1):Tai=0.5T‑Tbi     (2);0.1T≦Tci≦0.4T   (3);Tdi=0.5T‑Tci     (4);且在含金属氧化物微粒膜的厚度方向的截面中,在截面内的垂直于厚度方向的1200nm长度的含金属氧化物微粒膜中,不存在金属氧化物微粒的膜中央区域的长度Li的总长度L为240nm以上,其中Li表示第i个不存在金属氧化物微粒的膜中央区域的长度。
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