一种非真空无掩膜的高电导率金属纳米线的加工方法

摘要

本发明涉及一种非真空无掩膜的高电导率金属纳米线的加工方法，属于微纳加工领域。该方法使用飞秒激光进行加工。首先对入射激光进行整形产生双光点光束，然后通过三维位移平台控制样品的位置，使得双光电光束与样品之间相对运动形成加工图案。通过控制聚焦平面与样品表面之间的距离控制线宽。该方法无需在真空条件下加工，降低对加工环境的要求，有利于成本的降低；无需掩膜，从而减少加工步骤，提高加工效率；金属纳米线由较为成熟的电子束蒸镀的方法产生，内部不存在纳米间隙，电导率较高；且金属纳米线的宽度可以大范围调节。该方法提供了一种可靠、高效、灵活的金属纳米线加工方法。

主权项

一种非真空无掩膜的高电导率金属纳米线的加工方法，其特征在于：具体步骤如下：步骤一、使用相位整形器对飞秒激光光束进行整形，形成双光点光束；该光束由两个强度相同的光点组成，两个光点之间形成光强较弱的暗区；步骤二、采用步骤一所得的双光点光束在纳米尺度的金属薄膜进行加工；光强较强的区域会使得薄膜去除，而两个光点之间的暗区由于光强较弱而保留，移动光束可形成纳米线。