发明名称 偏光膜和偏光膜的制造方法
摘要 本发明涉及偏光膜和偏光膜的制造方法。提供了一种偏光膜,其光学特性优异,并且耐久性和耐水性优异。根据本发明的实施方案的偏光膜包括具有10μm以下的厚度的聚乙烯醇系树脂薄膜。所述聚乙烯醇系树脂薄膜具有8.5wt%以上的碘浓度;并且所述偏光膜具有由以下所示的等式定义的交联指数为100至200。(交联指数)=(薄膜中的碘浓度)×(薄膜中的硼酸浓度)。
申请公布号 CN104635290A 申请公布日期 2015.05.20
申请号 CN201410638410.9 申请日期 2014.11.06
申请人 日东电工株式会社 发明人 后藤周作;山本佳史;池岛健太郎
分类号 G02B5/30(2006.01)I;B29C55/02(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种偏光膜,其包括具有10μm以下的厚度的聚乙烯醇系树脂薄膜,其中:所述聚乙烯醇系树脂薄膜具有8.5wt%以上的碘浓度;和所述偏光膜具有由以下所示的等式定义的交联指数为100至200;(交联指数)=(薄膜中的碘浓度)×(薄膜中的硼酸浓度)。
地址 日本大阪府