对焦位置调整方法、对焦位置调整装置、及激光加工装置

摘要

本发明提供一种可适当地调整在表面存在凹凸结构的基板中设置于凹部的界道的对焦状态的方法。对具有使多个单位遮光区域沿一方向等间隔排列而成的第一遮光图案及与其正交的第二遮光图案的状的遮光图案，将以界道的一格点为中心的状区域作为投影范围且以如下方式进行投影：使该遮光图案相对于光轴倾斜配置，第一遮光图案的多个单位遮光区域的各自的成像位置成为不同的高度位置，且第二遮光图案在一个高度位置成像。基于使格点与图像吻合而对包括投影范围的区域进行摄像而得的摄像图像，特定第一遮光图案的对比度成为最大的位置，基于最大对比度位置与格点位置的距离调整对焦机构的对焦位置，由此使对焦对象区域成为对焦状态。

主权项

一种对焦位置调整方法，其特征在于：其以于观察对象物中格子状地存在的对焦对象区域成为对焦状态的方式，调整观察光学系统中具备的对焦机构的对焦位置，且包括：保持步骤，其使所述观察对象物保持于保持机构；图案投影步骤，其对具有第一遮光图案及第二遮光图案的十字状的遮光图案，将以所述对焦对象区域的一格点为中心的十字状区域作为投影范围进行投影，所述第一遮光图案使多个单位遮光区域沿第一方向等间隔排列而成，所述第二遮光图案设置在与所述第一方向正交的第二方向上；摄像步骤，其于已投影所述遮光图案的状态下，使所述一格点与图像中央吻合而由所述观察光学系统中具备的摄像机构对包含所述投影范围的区域进行摄像；最大对比度位置特定步骤，其基于所述摄像步骤中摄像的图像来特定所述第一遮光图案的对比度成为最大的最大对比度位置；及对焦位置调整步骤，其调整所述对焦机构的对焦位置；且在所述图案投影步骤中，以如下方式将所述遮光图案投影至所述十字状区域，即，使所述遮光图案相对于所述观察光学系统的光轴倾斜而配置，所述第一遮光图案的多个单位遮光区域的各自的成像位置成为不同的高度位置，且所述第二遮光图案在一个高度位置成像；所述对焦位置调整步骤选择性地进行：第一对焦位置调整步骤，其在所述最大对比度位置特定步骤中可特定所述最大对比度位置的情况下，基于所述最大对比度位置与所述一格点的位置的距离来调整所述对焦机构的对焦位置，由此使所述对焦对象区域成为对焦状态；及第二对焦位置调整步骤，其在所述最大对比度位置特定步骤中无法特定所述最大对比度位置的情况下，使所述摄像机构对改变所述对焦机构相对于所述观察对象物的配置距离的多个摄像图像进行摄像，基于所获得的所述多个摄像图像来特定相对于所述对焦机构的配置距离的所述第二遮光图案的对比度变化，通过将所述对比度变化的极大位置决定为所述对焦对象区域成为对焦状态的所述对焦机构的配置位置，且使所述对焦机构的对焦位置与所述极大位置一致，而使所述对焦对象区域成为对焦状态。