| 发明名称 |
窓なし研磨パッドおよび保護されたファイバを有する研磨システム |
| 摘要 |
<p>A polishing system includes a polishing pad with an aperture that extends through all layers of the polishing pad and a light transmissive film positioned on top of a light-generating or light-guiding element of an optical monitoring system.</p> |
| 申请公布号 |
JP5722310(B2) |
申请公布日期 |
2015.05.20 |
| 申请号 |
JP20120508601 |
申请日期 |
2010.04.27 |
| 申请人 |
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发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/304;B24B37/013;B24B37/12 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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