发明名称 ELECTROLESS PLATING BASE AGENT
摘要 <p>[과제] 환경을 배려하여, 적은 공정수로 간편하게 처리할 수 있고, 또한 저비용화를 실현할 수 있는, 무전해 도금의 전처리 공정으로서 이용되는 새로운 하지제의 제공. [해결수단] 기재 상에 무전해 도금처리에 의해 금속 도금막을 형성하기 위한 하지제로서, 암모늄기를 분자 말단에 가지며 또한 중량평균분자량이 500~5,000,000인 하이퍼브랜치 폴리머, 금속 미립자 및 알콕시실란을 포함하는 하지제.</p>
申请公布号 KR20150054851(A) 申请公布日期 2015.05.20
申请号 KR20157007380 申请日期 2013.09.12
申请人 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. 发明人 SAITO DAIGO;KOJIMA KEISUKE
分类号 C23C18/30;C23C18/18;C23C18/20;C23C18/31 主分类号 C23C18/30
代理机构 代理人
主权项
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