发明名称 GAS SUPPLY APPARATUS, THERMAL TREATMENT APPARATUS, GAS SUPPLY METHOD, AND THERMAL TREATMENT METHOD
摘要 <p>(과제) 캐리어 가스의 공급측과 처리 용기측과의 차압을 작게 함으로써 파티클의 발생을 억제하는 것이 가능한 가스 공급 장치이다. (해결 수단) 원료 저류조(68) 내의 원료 가스를 캐리어 가스를 이용하여 처리 용기(4)로 공급하는 원료 가스 공급계를 갖는 가스 공급 장치(60)에 있어서, 원료 저류조 내로 캐리어 가스를 도입하는 캐리어 가스 통로(78)와, 원료 저류조와 처리 용기를 연결하여 캐리어 가스와 원료 가스를 흘리는 원료 가스 통로(70)와, 원료 가스 통로에 접속되어 압력 조정 가스를 공급하는 압력 조정 가스 통로(92)와, 압력 조정 가스의 처리 용기로의 공급을 시작함과 동시에 캐리어 가스에 의해 원료 저류조로부터 원료 가스를 처리 용기 내로 공급하는 것을 시작하는 제1 공정을 개시하고, 그 후, 압력 조정 가스의 공급을 정지하는 제2 공정을 행하도록 개폐 밸브를 제어하는 밸브 제어부(114)를 구비한다.</p>
申请公布号 KR101521466(B1) 申请公布日期 2015.05.19
申请号 KR20120044723 申请日期 2012.04.27
申请人 发明人
分类号 H01L21/02;H01L21/205 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
地址