摘要 |
<p>본 발명은 진공챔버와, 상기 진공챔버 내부에 마련되어 기재를 적재하는 적재부와, 상기 기재의 적어도 일면 측에 마련되어 플라즈마를 발생시키는 전극유닛을 갖는 플라즈마 CVD 장치에 관한 것으로서, 상기 전극유닛은 상기 적재부의 일 방향에 대응하는 방향으로 상호 이격 배치된 복수의 전극유닛으로 마련되되; 상기 각 전극유닛은 중공체의 전극과 상기 전극 내부에 마련되어 상기 전극 외측으로 자기장을 발생시키는 자기장발생부재를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 특히 대면적 기재의 전 면적에 걸쳐 균일하게 고품질 성막이 이루어질 수 있는 플라즈마 CVD 장치가 제공된다.</p> |